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교차오염 - cross contaminat - ion

이온주입장치의 구성재료에 의한 오염. 웨이퍼의 지지재료 및 웨이퍼근방의 금속제 부품 등이 이온빔에 의해 스퍼터링되어 웨이퍼 안으로 들어가는 것 또는, 동일 장치 안에 일련의 다른 공정 사이에서, 각각의 공정에 사용되는 가스, 생성물이 다른 공정환경을 오염시키는 것. 클러스터툴(cluster tool)의 보급과 함께 증가되고 있다.

반/디 용어집 이온 주입장치 웨이퍼처리공정
기압배율 보정계 - magnification correction system for atmospheric pressure

기압의 변화(공기의 굴절률의 변화)에 따라 변하는 투영렌즈의 배율을 보정하는 기구.

반/디 용어집 기압배율 보정계 magnification correction system for atmospheric pr
네거티브레지스트 - negative resist

빛, X선 또는 전자빔으로 노광하면 현상액이 중합(重合) 또는 가교(架橋)되어 굳어져, 현상 후까지 기판표면에 남는 특성을 가진 감광성 재료로써, 열특성과 내화학성이 뛰어나지만, 콘트래스트～1.5 정도이고, 현상시 현상액이 노광된 레지스트 사이에 끼어들어 패턴을 부풀리는 팽윤(swelling)현상으로 해상도가 2～3㎛로 낮아 팽윤현상이 없는 네거티브레지스트를 연구중이다.

반/디 용어집 기본․공통 네거티브레지스트
고주파유도 가열진공 증착장치 - induction heating evaporation system

증발재료에 고주파 유도전류를 유기시켜, 증발재료 스스로를 가열(加熱)시키는 진공증착장치. 이 방법은 전기적 유도재료에만 유효하고 절연체에는 적당하지 않지만, 하전입자에 의한 손상이 적다.

반/디 용어집 고주파유도 가열진공 증착장치 웨이퍼처리공정
80486

32비트 데이터버스와 어드레스 버스를 가지며, 8KB의 내부케쉬메모리를 자체적으로 포함하고 있는 CPU로 486 DX의 경우 수치연산 보조프로세서(80387)가 기본으로 내장되어 있으며, 다중작업에 적합하도록 설계되었으며, 복수 운영체제의 사용이 가능하다. 또한 방대한 메모리 용량(가상메모리를 사용할 경우 64TB까지) 지원이 가능하다. cf.) 486SX - 수치연산 보조프로세서를 내장하고 있지 않은 486.

통신 용어집 80486
경합서비스

미국 LQSS사의 글로벌 스타, TRW사의 오디세이 , 인말샛의 프로젝트21 등 저궤도 주회위성을 복수(각각 48개, 12개, 약 40개) 사용한 이동통신서비스가 계획되고 있다. 서비스 개시는 98년으로 예상.

통신 용어집 경합서비스
글리치 - glitch

일반적으로, 신호에 포함되는 기대하지 않은 펄스 모양의 노이즈. 예를들면, D/A 컨버터에 있어서, 디지털 입력이 변화할 때, 아날로그출력으로 표현되는 펄스를 말한다.

반/디 용어집 기본․공통 사공정
네일헤드본더 볼 본더 - nail head bonder

볼 본딩하는 장치. 툴의 상하운동, 와이어의 제어, 볼제작을 하는 토치(torch) 등으로 된 본딩헤드 및 테이블, 시료를 가열하는 장치 등으로 구성되어 있다.

반/디 용어집 조립공정 nail head bonder
감압법 - reduced pressure method

결정성장용기 안에 불활성가스를 흘리면서 가스배출 쪽으로 진공펌프로 감압시키고, 결정성장할 때의 반응생성물을 배출하여 청정분위기를 만들어 내기 위해, 감압 중에 가속시킨 불활성가스를 통과시켜 냉각효과를 높이는 방법.

반/디 용어집 단결정제조장치-형식 웨이퍼제공정

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