반디통 용어집

CAE 입문자도 쉽게 이해할 수 있는 '알기 쉬운 기술 용어집'

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이물 - dust particle contamination

기판과 펠리클 위에 부착된 패턴 이외의 물질. 부유물, 레지스트, 오일 미스트(oil mist)가 있다.

반/디 용어집 검사장치 마스크제조공정
이단 휠 다단 휠 - two - stage wheel multi - stage wheel

한 개의 휠에 두 개의 연삭홈이 있는 휠. 보통 두 개의 휠의 모양은 다르게 되었다.

반/디 용어집 기계가공 웨이퍼제공정
유동전류모니터 - streaming current monitor

하전입자가 중력 등에 의해 이동할 때에 발생하는 전위차를 연속적으로 측정하는 모니터. 물처리에 있어서, 화학약품의 최적첨가량을 자동적으로 제어하는 시스템에 사용된다.

반/디 용어집 사공정 신뢰성 검사
온도하강시간 - temperature fall time

배닝챔버의 수조내의 온도가 배닝설정온도에서 장치주위온도에 도달하는 데 필요한 시간.

반/디 용어집 기본․공통 사공정
임계선폭반복성 - CD repeatability

마스크 위의 패턴을 여러 번 측정한 값들의 오차 정도.

반/디 용어집 검사장치 마스크제조공정
와이어 변형폭 - deformation width of wire

와이어를 웨지툴 또는 캐필러리 툴로 본딩할 때에 눌려 찌그러진 와이어의 폭.

반/디 용어집 조립공정 본딩
자기진단기능 - self diagnostic function

장치 각 부분의 기능, 정밀도가 정상인가 아닌가를, 장치 내의 기능을 사용하여 자동적으로 판정하기 위한 기능. (이 때, 기준이 되는 치구(jig) 등을 가리켜, diagnostic보드(진단보드)라고 한다.)

반/디 용어집 기본․공통 사공정
위상시프트 마스크 위상천이마스크 PSM - phase shift mask PSM

노광 파장을 변화시키지 않고, 노광 파장에 의존하는 포토 리소그래피(photo lithography)의 가공 한계를 크게 낮추기 위한 마스크로써, 라인/스페이스과 같은 패턴에 있어서, 이웃한 투광부로부터 조사되는 빛의 위상을 180。C로 반전시켜주면, 그 사이에 낀 차광부의 빛의 광도(intensity)가 0이 되어 이웃한 투광부가 분리되는 원리이다. 타이프(type)로써 (1)하프 톤(half tone) (2)레벤슨 (3)보조 패턴 (4)에지(edge)강조 (5)크롬리스형이 있다.

반/디 용어집 기본․공통 마스크제조공정
이온빔 식각장치 이온밀링 장치 - ion beam etching system ion milling system

이온원을 정전위 상태로 유지하고, 불활성가스를 이용하여 플라즈마를 생성하며, 이온원에 의해 불활성가스 이온을 인출하여 웨이퍼에 조사(照射)하고 식각하는 장치.

반/디 용어집 건식식각장치 웨이퍼처리공정

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

탄성계수 - elastic modulus

프란틀 수 - Prandtl number

공칭 응력 - nominal stress

최대 전단응력(트레스카) 이론 - maximum...

CFL수 - Courant - Friedrichs...

이물 - dust particle contamination

이단 휠 다단 휠 - two - stage wheel multi - stage wheel

유동전류모니터 - streaming current monitor

온도하강시간 - temperature fall time

임계선폭반복성 - CD repeatability

와이어 변형폭 - deformation width of wire

자기진단기능 - self diagnostic function

위상시프트 마스크 위상천이마스크 PSM - phase shift mask PSM

이온빔 식각장치 이온밀링 장치 - ion beam etching system ion milling system

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