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고주파신호 측정장치 - radio frequency measure - ment

음성 대역 이상의 주파수 파라메터를 측정하기 위하여 정현파발생원, 진폭계 등으로 구성된 기능.

반/디 용어집 사공정 radio frequency measure- ment
다중간섭 효과 정재파효과 - multiple interface effect standing wave effect

노광할 때, 레지스트막으로 입사하는 입사광과 웨이퍼에서 반사되는 반사광이 간섭하여, 정재파가 발생하는 것. 이 영향으로 레지스트 막두께가 달라지고, 선폭이 변동하는 현상.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 레지스트 처리
8086

내부 데이터버스와 외부 데이터버스가 모두 16비트 단위로 처리하도록 되어있는 완벽한 16비트 CPU로 어드레스 버스로는 20비트를 사용한다. 세그먼트에 의한 메모리 관리 기법을 도입하여 메모리 관리 능력이 1MB까지 향상되었다.

통신 용어집 8086
고에너지 이온주입 장치 - high energy ion implanter

이온에너지(1개 이온)의 최대값이 250keV를 초과하는 이온주입장치.

반/디 용어집 이온 주입장치 웨이퍼처리공정
다극 석영관형 CVD장치 - multiple parallel plate electrode plasma enhanced CVD system

석영반응관 안에 여러 전극판을 삽입하여, 이 전극 위에 여러 웨이퍼를 수직으로 설치한 구조의 용량결합의 플라즈마CVD장치. 서로 마주보는 전극판 사이에 고주파전력을 인가하여, 저압반응가스의 플라즈마를 발생시켜 박막을 형성한다.

반/디 용어집 CVD 장치 다극 석영관형 CVD장치
감속모드 - deceleration mode

인출전극 이하의 에너지로 주입할 목적으로 질량분석 후, 역바이어스로 빔을 감속시키는 기구. 이를 통하여, 저에너지의 빔을 많이 얻을 수 있다. 디셀모드(decel-mode)라고도 한다.

반/디 용어집 이온 주입장치 deceleration mode
갈륨스테인 - gallium stain

액체 금속 갈륨을 이온원으로 하는 이온빔으로 마스크 패턴의 결함을 수정할 때, 수정부분 및 수정부분 근방에 주입된 갈륨. 이것들에 의해 수정부분 및 수정부분 근방의 유리부의 투자율이 낮아진다.

반/디 용어집 검사장치 갈륨스테인
광파간섭식 좌표측정기 - laser interfero - metric coordinate measure - ment system

레이저 간섭계로 위치좌표를 읽어들일 수 있는 정밀한 X-Y 스테이지계와 마스크 등의 패턴에지를 검출계를 갖는 선폭, 좌표측정장치.

반/디 용어집 검사장치 마스크제조공정
매거지 스태커 - magazine stacker

매거진을 연속적으로 공급, 배출하는 유니트. 보통 로더측과 언로더측으로 배치된다.

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자주 찾는 용어

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감쇠비 - damping ratio

마찰계수 - friction coefficient

프란틀 수 - Prandtl number

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갈륨스테인 - gallium stain

광파간섭식 좌표측정기 - laser interfero - metric coordinate measure - ment system

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