에칭한 면, 또는 래핑한 면에 빛의 스폿(spot)을 쏴, 이 반사광을 스크린에 비추어 볼 때, 결정축에 대응하는 한 그룹의 스폿의 수와 배열을 통해, 어느 축에 가까운 면이 나타나는가를 측정하는 방법. 또, 이 스폿의 면 그림자가 대칭이 되도록 결정을 회전시켜 어떤 면이 경사져 있는가를 알 수 있다.
반/디 용어집물성검사장치검사
5점두께변화 - five points thickness variation
웨이퍼면애의 진정된 다섯점에서의 두께의 최대값과 최소값의 차.
반/디 용어집검사웨이퍼제공정
데이터압축 - data compaction data compression
일정용량의 기억매체 속에 많은 패턴 데이터를 저장하는 것. 그리고 데이터의 전송속도를 향상시키는 것을 목적으로 하는 패턴 데이터의 압축기술
반/디 용어집노광․묘화장치마스크제조공정
마그네트론 스퍼터링 장치 - magnetron sputtering system
전계와 교차하는 자계를 인가하면, 음극에서 나온 전자가 토로이달(toroidal)운동을 하여, 타겟 위에 고밀도 플라즈마를 만들고, 비교적 저전압에서 스퍼터링 속도를 높일 수 있다. 페닝 마그네트론을 응용했으므로 마그네트론이라 부르며, 같은 원리의 장치로 직교전자계형 스퍼터링장치라고도 한다.
반/디 용어집웨이퍼처리공정박막형성장치
공정구역 - process area
청정실 배치에 있어서, 장치와 웨이퍼와의 주고받으며 운반하는 구역. 고청정환경이 요구된다. 서비스영역과는 파티션패널(partition panel)로 구분된다.
반/디 용어집청정실설비․환경공정
동축조명 - coaxial lighting
현미경축과 조명축을 동일축으로 하고 대물렌즈를 통해 시료를 조명하여 반사광을 관측하는 조명방법
반/디 용어집조립공정기본․공통
강유전체 박막 - ferroelectric thin film
캐패스터용으로 사용되는 PZT*1, BST*2, SBT*3 등의 박막. MOCVD법, 용액기화CVD법, 스퍼터링법, 졸겔(Sol Gel)법, 도포법 등으로 형성된다. *1 : PbxZr1-χTiO3 *2 : BaxSr1-χTiO3 *3 : SrBi2Ta2O9
반/디 용어집웨이퍼처리공정박막형성장치
돔형 지그 - dome jig
안쪽에 여러 개의 웨이퍼를 지지하는 돔 모양의 웨이퍼 홀더. 중심축 위에 증발원을 설치하고, 또 돔을 공전시켜 한번에 많은 웨이퍼에 균일한 막을 부착할 수 있다.
반/디 용어집dome jig웨이퍼처리공정
가스크로마토그래피질량분석계 GC - MS - gas chromatography mass spectrometer
가스크로마토그래피에 의해 분리된 가스를 이온화시켜, 질량분석법으로 분석하는 계기. 모노실란 등의 특수재료가스의 미량불순물에 적용시켜, ppt 레벨의 분석이 가능하다.