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클러스터․이온빔 증착장치 - ionized cluster beam evaporation system

고진공 중에서, 10-2～10-3개의 원자가 모인 클러스터를 이온화하고, 가속시켜 웨이퍼에 충돌․퇴적시키는 장치. 증발원은 클러스터증발원인데, 증발셀(cell)의 증기배출구를 작은 노즐로 만들어 셀의 안과 밖의 압력차를 크게 하여 분출시킨다. 이 때, 증기가 단열팽창하는 과정에서 클러스터가 생성된다. 열전자방출 필라멘트와 양극(陽極)을 이용한 전자충격으로 클러스터를 이온화한다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 진공증착장치
탁상 출판 - DTP(Desk Top Publishing)

data terminal equipment

통신 용어집
컵 린스 - bowl rinse

레지스트를 도포할 때 컵 안을 청정하게 유지하고, 또 유지(maintenance)를 간단히 하기 위해, 소량의 용제로 간단하게 세정하는 것

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 도포장치
출력패턴 센스법 - sensitizing pattern generation method

피측정디바이스에서 예상되는 패턴을 작성하는 방법. 입력패턴을 양품의 피측정디바이스에 인가하여 출력패턴정보를 얻어, 테스트 패턴을 작성하는 방법.

반/디 용어집 기본․공통 사공정
테스트패턴 메모리 - test pattern memory local memory

논리디바이스의 기능검사에 사용하는 시계열 방향의 테스트패턴을 발생하기 위한 데이터를 저장하는 메모리.

반/디 용어집 기본․공통 사공정
조사형터널현미경법 STM - scanning tunneling microscopy

전계방사전류가 탐침과 시료 사이의 거리에 의존하는 것을 이용하여 시료표면의 원자레벨의 굴곡을 터널전류의 변화로 탐지하고, 탐침의 움직임을 화상으로 표시하는 방법.

반/디 용어집 물성검사장치 검사
플래트니스 테스터 평면도측정기 - fletness tester

기판의 평탄도를 측정하는 장치. 평탄도가 매우 높은 기준판(optical flat)과 프리즘을 피검사판과 평행하게 세팅하여, 레이저광선으로 얻어지는 간섭 골의 개수, 모양(간섭 골의 간극)에 의해 평탄도가 측정된다.

반/디 용어집 검사장치 마스크 블랭크 제조
정반요동기구 - table oscillation

연마정반을 포함한 구동부를 수평으로 왕복운동시키는 기구. 웨이퍼에 대한 연마조건을 균등화시킬 목적으로 사용된다.

반/디 용어집 웨이퍼제공정 폴리싱장치-성능․정밀도
회로 - circuit

Committed Information Rate의 약자. 프레임 릴레이 망에서 사용하는 속도 표현의 하나. 망이 폭주상태가 아닐 때에 기대할 수 있는 실효속도의 최저치. 논리링크마다 설정한다. 망이 폭주상태로 들어간 경우에는 이 속도로 통신한다 해도 프레임이 폐기될 가능성이 있다.

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

프란틀 수 - Prandtl number

탄성계수 - elastic modulus

공칭 응력 - nominal stress

CFL수 - Courant - Friedrichs...

최대 전단응력(트레스카) 이론 - maximum...

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정반요동기구 - table oscillation

회로 - circuit

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