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전자광학계 - eletron optics system

스폿 또는 큰 형상의 전자빔을 기판 위에 집속(集束), 편향시켜 원하는 형상의 패턴 노광시키기 위한 시스템(係). 전자총, 전자 렌즈(lens), 편향기 등으로 구성되어 있다.

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
QPSK

quadrature phase shift keying

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CD - ROM 드라이브의 버퍼

드라이브의 속도는 전송률(KB/sec)로 표시되며 숫자가 클 수록 성능이 좋다. 평균 150KB/sec를 기준으로 2배속(300KB/sec), 3배속(450KB/sec)으로 표현한다. 현재는 2배속이 주종을 이루고 있다.

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파형분석기 WFA 파형추적기 - waveform analyzer wave tracer

피측정디바이스에서 관측되는 파형을 해석하고, 표시하는 툴.

반/디 용어집 기본․공통 사공정
HGC

Hercules Graphics Card.

통신 용어집
좌회전 반시계방향회전 CCW - counterclockwise

단결정이 성장할 때의 시드축, 도가니축의 회전방향. 종자결정을 기준으로 하여 종자결정을 설치한 곳으로부터 볼 경우 반시계방향 회전을 좌회전(CCW)라고 한다.

반/디 용어집 웨이퍼제공정 단결정제조
정렬정밀도 위치정합 정밀도 - alignment accuracy

기판 위에 기존에 있던 패턴과 다음 공정설계패턴의 상대위치정밀도, 특히 정렬마스크간의 위치 정밀도.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
최대조사량 - maximum dosage

전자빔 묘화장치로 조사할 수 있는 단위면적당의 전자빔의 전하 최대값. [단위: C/㎠]

반/디 용어집 노광․묘화장치 마스크제조공정
질량분석계 - mass analyzing system

이온원에서 생성된 각종 이온 중에, 주입에 필요한 이온을 선별하는 분석 자석, 도파관 및 필요한 이온만을 통과시키는 분석슬릿으로 구성되어 있다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 도핑

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자주 찾는 용어

폰 미제스 응력 - von Mises stress

마찰계수 - friction coefficient

감쇠비 - damping ratio

프란틀 수 - Prandtl number

탄성계수 - elastic modulus

공칭 응력 - nominal stress

CFL수 - Courant - Friedrichs...

최대 전단응력(트레스카) 이론 - maximum...

전자광학계 - eletron optics system

QPSK

CD - ROM 드라이브의 버퍼

파형분석기 WFA 파형추적기 - waveform analyzer wave tracer

HGC

좌회전 반시계방향회전 CCW - counterclockwise

정렬정밀도 위치정합 정밀도 - alignment accuracy

최대조사량 - maximum dosage

질량분석계 - mass analyzing system

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