저압상태에서, 반응성가스의 고주파 글로우방전분해에 의해 박막을 형성하는 CVD장치. 반응실의 외측이나 내측에 설치된 대향전극 사이에 고주파를 걸어 플라즈마를 발생시키는 용량결합형 플라즈마CVD장치와, 석영반응관의 외측에 감긴 코일에 고주파전압을 걸어 플라즈마를 발생시키는 유도결합형 플라즈마CVD장치가 있다.
기술용어통category-bandiCVD 장치고주파 플라즈마 CVD장치웨이퍼처리공정박막형성장치RF plasma enhanced CVD system
