플라즈마 손상 - plasma damage

플라즈마를 조사(照射)하는 것에 의한 손상. 이것들은 크게 다음의 3가지로 나눈다. (1) 전극근방에서 발생하는 이온 시스에 의해 가속된 이온과, 웨이퍼와 충돌로 인해 생기는 식각표면의 결합파괴. (2) 방전과 함께 발생하는 플라즈마 중에, 특정한 파장이 웨이퍼에 조사되어 일어나는 이른바 조사손상(照射損傷). (3) 플라즈마 중의 하전입자의 축적에 의한 얇은 절연막(게이트 산화 등)의 정전파괴.