OSF - oxidation induced stacking fault

실리콘을 산화하여 표면 혹은 내부에 발생하는 적층결함. 이것의 요인으로써는 결정표면을 연마하는 사이에 생기는 기계적손상, HF에 의한 표면오염, 중금속의 오염을 포함하는 표면결함 같은 외인적 요인 및 열처리에 의해 발생하는 점결함의 응집과, 결정 grown-in 결함인 스월(swirl)결함 또는 산소석출 등의 내인적 요인이 있다.