다중노광방식 - multiple exposure

노광장치에 있어서, 편향제어된 빔에 의해 묘화된 패턴은 편향 수차(收差)에 의해 치수 정밀도, 위치 정밀도 등이 영향을 받는다. 이것들의 정밀도를 향상시키기 위해, 빔의 편향 위치(스캔 위치)를 조금 바꿔 중복되게 노광하는 방식. 개개의 노광장치에 의해, 필드 시프트 노광, 4패스 노광, OSV 등으로 나눈다.