리소그래피 시뮬레이션 현미경 - lithography simulation microscope

스테퍼에 이용되는 노광파장, 개구수, 동조성(coherent factor), 디포커스양 등을 설정하여, 실제로 포토마스크를 통과한 빛을 검출하는 것을 가지고, 웨이퍼 뒤에 마스크 패턴 투사상(投射像)의 강도분포를 시뮬레이션할 수 있는 현미경. 마스크 패턴과 결함의 전사(轉寫)특성을 평가하는 데 이용된다.