레이저 도핑장치 - laser doping system

웨이퍼에 자외선 영역의 파장을 가진 레이저를 쏘아, 광화학반응으로 불순물가스(dopant gas)를 분해하는 동시에 레이저를 쏜 부분을 국부적으로 용해시켜, 이 부분에 불순물을 도핑하는 장치. 이온주입법과 달리, 결함생성이 억제되며, 활성화하기 위한 열처리(anneal)가 필요 없다. 레이저로써 단파장의 엑시머레이저가 주로 사용되고 있다.