이온주입 - ion implantation

가속된 이온을 반도체기판 등에 주입시키는 것. 보통의 실리콘기판에는 B, P, As 등의 이온이 주입불순물로 이용되고 있다. 제어성과 재현성이 우수하고, 종래의 열확산법을 대신하여 반도체기판의 불순물도입법으로써 광범위하게 사용되고 있다.