하프톤형위상천이마스크 하프톤형 PSM - half

빛을 차단하는 차광부의 투과율을 0이 아닌 값으로 높이고 동시에 위상을 반전시켜, 투광부와 차광부가 접하는 에지(edge)에서 투광한 빛과 서로 상쇄시켜 에지부분의 빛의 강도를 0으로 하는 마스크. 반복패턴 및 접촉패턴(contact pattern)에 유효하며, 간단하다.