전자빔셀 마스크 - electron beam cell mask

셀투영방식의 전자빔리소그래피로 사용되는 마스크. 전자빔을 형성하므로써, 메모리 LSI셀 등, 반복성이 높은 패턴의 일부를 식각하여 형성시키고, 이것에 전자빔을 반복하여 웨이퍼를 노광한다. 메모리셀 등을 투영하기 때문에 셀투영방식이라고도 부른다.