미세한 패턴을 형성하기 위해 활성산(active acid)의 연쇄화학을 이용한 레지스트로 산반응성 고분자와 광산발생제(photoacid generator, PAG)로 구성되는 이성분계와 매트릭스수지가 첨가된 삼성분계로 나뉜다. 노광된 부분에 있는 광산발생제에서 산(acid)이 발생되어 잠상(latent image)이 남으며, 노광후 가열(post exposure bake)과정에서 이 산이 산반응성 물질에 촉매로 작용하여 화학반응이 연쇄적으로 일어나 용해도를 변화시킨다.
