차지업방지 - charge - up elimination

전자선 묘화장치에 패턴을 묘화하는 경우에 전자빔을 레지스트에 조사하면, 차지업이 발생하고 묘화 정밀도가 낮아지는 경우가 있는데, 이것을 방지하는 것. 레지스트가 도전성을 갖게 하는 방법, 레지스트 위에 도전막을 형성하는 방법과 유리기판 위에 투명도전막을 형성하는 등의 차지업 방지방법이 있다.