안테나비 - antenna ratio

MOS소자 구조에 있어서, 식각 중에 플라즈마에 노출된 배선중에서 하전입자가 유입된 총면적 S와 이 배선에 연결된 게이트전극의 면적 Sa의 비 S/Sa로 표현되는 단위가 없는 양. 차지업(charge-up)에 기인하는 게이트 산화막 신뢰성열화를 평가할 때 지표가 된다.