반도체 웨이퍼 주변 Gas 흐름에 따른 열처리(Annealing) 장비 내부 온도 특성 분석 보고서

반도체 디바이스 제조에 있어서 반드시 필요한 열처리 공정에서 사용되는 열처리 장비는 웨이퍼 전체의 온도를 균일하게 유지하고 측정하거나 제어하는 능력이 우수해야 합니다. 특히 온도를 상승 및 하강할 때 웨이퍼의 원주 부분이 내부보다 온도가 일반적으로 낮아질 경우 이러한 웨이퍼