외부 자계를 차단할 목적으로, 파마로이(Permalloy) 등의 고투자율 재료를 이용하여 원하는 영역을 둘러싸는 것
반/디 용어집노광․묘화장치마스크제조공정
일괄 노광 블록 노광 - cell projection block exposure
전자빔 노광방식에 하나. 전자광학계로 노광할 때, 개구부를 갖춘 마스크를 설계하여, 개구부의 형상을 시료 위에 전사하는 묘화방식. 이것에 의해 전사된 샷(shot) 수를 줄일 수 있어, 쓰루풋을 향상시킬 수 있다.
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이미터 - emitter
캐소드의 동의어. 보통, 전계방사형 또는 열전계 방사형 전자총의 음극을 가리킨다.
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입력데이터 포멧 - input data format
장치에 입력된 패턴 데이터의 표현방식
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삽입패턴위치부정합 - shift of inserted pattern
마스크 또는 웨이퍼 위에 다이 배치의 일부분이 정렬표시층(alignment mark) 등의 다른 패턴을 삽입할 때, 패턴의 중심이 다이의 중심과 어긋나는 것 또는, 어긋난 양
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서브필드 - subfield
복수개의 편향기로 구성된 편향계의 경우, 편향 영역이 작은 쪽 영역
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에지러프니스 - edge roughness
묘화된 패턴의 에지부의 굴곡 정도. 레지스트, 공정조건, 전자빔의 직경 및 빔의 모양 등에 의해 변한다.
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스텝 앤드 리피트식 묘화법 - step and repeat drawing method
스테이지가 원하는 거리를 이동하고 정지하는 것을 반복하고, 정지 중에는 벡터 스캔 또는 라스터 스캔으로 묘화하는 방식
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서펜타인 묘화법 - serpentine drawing fashion
라스터 스캔방식의 전자빔 묘화장치에서, 마스터 마스크를 묘화할 때, 스테이지가 동작하는 모양을 뱀의 몸이 움직이는 것에 비유한 것. 한 칩이 스트라이프(또는 프레임)로 된 마스터 마스크에 있어서, 첫 행에 배치된 칩 안에 제 번째 스트라이프(또는 프레임)의 처음 열의 칩에서 마지막열의 칩에 대해 스테이지의 왕복운동을 하고, 순번에 =1, 2,……, 을 처음 열의 칩에서 마지막 열의 칩까지 묘화하여 마스크를 완성하는 묘화 방식
