0.5% 불소산에 1～10%의 과산화수소를 혼합한 세정액으로, 영어의 첫 글자(initial)을 따서 FPM액이라고도 한다. 불소산만으로 세정하면 구리오염이 생기지만, FPM액은 구리오염이 없고 실온(室溫)에서 침적처리하면서 웨이퍼의 산화막과 금속오염이 제거된다. 세정면에 자연산화막도 형성되지 않는다.
반/디 용어집웨이퍼처리공정습식세정장치
표면청정도 - surface cleanliness
표면에 존재하는 미량의 오염물의 측정값. 표면의 깨끗한 정도를 나타낸다. 예를들면 입자오염은 1㎠당 소정의 입자보다 직경이 작은 입자의 부착물 수, 표면금속불순물은 1㎠당 불순물 원자수, 유기분자오염은 1㎠당 중량과 표면피복성 등으로 표시한다.
반/디 용어집웨이퍼처리공정습식세정장치
싱글카세트 로터 - single cassette rotor
원심건조장치의 대형카세트 1개가 중심부에 수납되는 로터.
반/디 용어집웨이퍼처리공정세정
불소산첨가 순수 - HF added pure water
5～10ppm의 불소산을 첨가한 순수. 불소산 산화막제거처리한 후 웨이퍼린스를 사용하면, 단순하게 순수만 사용한 것과는 달리 린스 할 때와 공기 중에 보관할 때, 자연산화막 성장을 현저하게 억제할 수 있다. 또 불산의 살균력에 의해 순수(純水)시스템에서의 박테리아 발생을 방지할 수 있다.
반/디 용어집웨이퍼처리공정습식세정장치
프로세스컵 세정컵 - process cup
브러시 스크러버, 고압분사세정, 분류식 식각장치 등에 있어서, 세정처리하는 컵 모양의 용기
반/디 용어집웨이퍼처리공정습식세정장치
증기건조장치 - vapor drying equipment
물을 기화잠열이 작은 유기용매와 치환한 후, 유기용매의 증기로 가열하여 건조하는 장치.
반/디 용어집웨이퍼처리공정세정
HF 증기 세정장치 - HF vapor cleaning equipment
불화수소산 또는 불화수소와 알콜의 혼합액에서 발생된 증기로 Si 웨이퍼 표면에 자연산화막 등을 제거하는 장치. 특히 막성장공정의 전처리(前處理)에 이용된다.
