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조명계 - illumination system

마스크(레티클)에 노광광속(光束)을 주기 위한 광학계 및 장치.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
정렬정밀도 위치정합 정밀도 - alignment accuracy

기판 위에 기존에 있던 패턴과 다음 공정설계패턴의 상대위치정밀도, 특히 정렬마스크간의 위치 정밀도.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
핀 척 - pin chuck

웨이퍼를 흡착유지하기 위한 척인데, 웨이퍼 뒷면과 척 표면 지지부분에 접촉면적이 적게 하기 위해, 웨이퍼를 지지하는 부분에 핀모양의 돌기를 다수 배열한 척.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
샷 - shot

한 번의 노광 광조사(光照射). 또는, 이런 노광에서 빛을 받는 영역.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
액티비 댐퍼 - active damper

반도체 노광장치에 있어서, 받침대 진동 등의 외란(disturbance)를 차단하기 위한 진동제거장치인데, 특히 진동을 억제하기 위한 액추에이터(actuator), 센서 및 이 제어 시스템을 갖는 진동제거장치를 말한다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
변형조명 경사입사조명 - modified illumination oblique incidence illumination

광노광장치에 있어서, 광학계의 광축 위에 없는 개구를 넣어, 레티클의 노광광속(光束)을 비스듬하게 입사시키는 조명법. 레티클에 의해 회전한 0차광과 +1차 혹은 -1차만으로 노광하는 것으로, 해상도와 DOF를 향상시킨다. 개구 형상에 의해 고리형 조명, 4중극조명 등으로 부른다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
양면(兩面) 노광장치 - double sided aligner

기판의 양면에 노광하기 위해 패턴을 정렬하여 노광하는 노광장치.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
미러렌즈 투영노광 장치 - mirror - lens projection aligner

투영광학계가 반사 및 굴절계로 구성되어 있는 노광장치. 등배의 투영광학계를 이용한 미러렌즈등배 투영노광장치, 축소투영광학계를 이용한 미러렌즈축소 투영노광장치가 있다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
초점심도 DOF - depth of focus D. O. F.

일정한 결상성능을 유지할 수 있는 초점범위로써, 줄여서 DOF라고도 부른다. 초점심도를 수식으로 표현하면, 다음과 같이 된다. C1133 : 계수 : 파장 : 개구수

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양면(兩面) 노광장치 - double sided aligner

미러렌즈 투영노광 장치 - mirror - lens projection aligner

초점심도 DOF - depth of focus D. O. F.

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