마스크 블랭크 위에 원화패턴을 형성한 후, 이것들을 세정 및 건조하는 장치로써, 초음파세정장치․스크럽세정장치․고압수분사세정장치․화학세정장치․건조장치 등이 있다. 이들 장치의 용어의 의미는 웨이퍼처리공정의 용어를 참조할 것.
반/디 용어집마스크제조공정패턴형성장치
스트로브 - strobe
양․불량을 판정할 때, 시간적인 위치를 정하는 값.
반/디 용어집기본․공통사공정
배열 어레이 - array
주(主) 패턴과 보조패턴 등을 기판 위에 배치하는 것
반/디 용어집노광․묘화장치마스크제조공정
쓰기오류 지우기오류 - write fail erase fail
비휘발성 반도체메모리(플래시메모리 등)에 있어서, 쓰기 또는 지우기를 실행한 후, 에러의 회수가 허용 에러회수를 넘는 것.
반/디 용어집사공정에싱
미소굴곡 - micro - roughness
Si 웨이퍼의 거울면도 100～1000nm의 피치에 수 nm이하 높이의 굴곡이 만들어진다. 이 레벨의 굴곡을 미소굴곡이라고 부르며, 웨이퍼의 연마조건, 결정방위, SC-1세정조건에 영향받는다. 얇은 게이트 산화막의 내압특성은 미소굴곡의 증대를 저하시키기 때문에, 이것을 억제하기 위해 표준조성의 NH4OH비를 수 분의 1이하로 하여 세정한다.
반/디 용어집웨이퍼처리공정습식세정장치
산화환원장치 - oxidation reduction equipment
오존, 염소 등의 산화제의 산화력과 아황산나트륨 등의 환원제의 환원력을 이용하여, 폐수 중의 산화․환원 등을 병용하는 경우가 많다.
반/디 용어집설비․환경공정물
세정평가 - cleaning evaluation
세정 후의 웨이퍼 면에 잔류하는 입자, 자연산화막, 유기물 및 금속불순물의 양을 측정하여, 허용값내로 제거되는가를 판단하는 것.
반/디 용어집웨이퍼처리공정습식세정장치
벡터스캔 - vector scan
필요한 부분만 빔을 이차원적으로 주사시켜, 패턴을 형성하는 묘화 방식
반/디 용어집노광․묘화장치마스크제조공정
블레이드프레임 - blade tensioning frame
멀티블레이드톱으로, 블레이드와 스페이서를 교대로 맞추어 블레이드에 일정한 장력을 주어 고정하는 프레임
