레이저광의 에너지로 기체분자를 분해하고, 저온으로 웨이퍼 위에 박막을 형성하는 CVD장치. 레이저의 파장에 따라 자외선레이저(전자여기)CVD장치와 적외선레이저(진동여기)CVD장치로 구분된다.
반/디 용어집CVD 장치웨이퍼처리공정
마이크로 프로그램 - micro program
하드웨어의 기본적인 제어조작을 기계고유명령으로써 기술한 프로그램. 레지스터, 가산기. 각종 논리회로로 구성된 패턴발생기, 연산기 등에 이용된다.
반/디 용어집기본․공통사공정
공기조화설비 - air conditioning system
공간의 온도, 습도, 먼지, 가스성분, 냄새, 압력, 풍속, 기류의 모양 등의 환경공기조건을 목적에 부합시켜 조화시키고 관리하는 설비. 일반적으로 공기조화기, 패키지형조화기, 팬코일유닛, 송․배풍기, 덕트 설비 등으로 구성되어 있다.
반/디 용어집청정실air conditioning system
딥현상장치 - dip developer
현상액 중에 웨이퍼를 침적시켜, 웨이퍼를 진동시키거나 현상액을 휘저어, 균일하게 현상처리하는 장치. 온도 및 액체의 농도 등의 관리를 통하여, 편하게 성능을 업그레이드(upgrade)하는 것이 연구되고 있다.
반/디 용어집딥현상장치웨이퍼처리공정
각형컷 - square cutting
웨이퍼의 외주에 관계없이, 일정한 절삭 스트로크로 컷팅하는 방식. 원형컷에 비해 쓰루풋 늦다.
반/디 용어집조립공정다이싱
내열성한외여과막 - hot water resistant ultrafiltration membrane
열수살균 또는 증기살균이 가능한 한외여과막. 막재질로써는 폴리술폰, 폴리에테르술폰 등이 있다.
반/디 용어집설비․환경공정물
냉각 스테이지 - cooling stage
어닐 후의 웨이퍼를 원하는 온도까지 냉각하기 위한 스테이지. 석영을 이용한 수냉판(水冷板) 또는 직접진공을 흡입하는 방법 등이 있다.
반/디 용어집냉각 스테이지어닐장치
레지스트레이션 검사 - registration inspection
각 포토마스크간 패턴의 상대위치정밀도를 측정(비교검사). 일반적인 디바이스(IC)에 대해 십수 매(枚) 이상의 포토마스크를 필요로 하기 때문에, 각 마스크의 중복 정밀도가 중요하게 된다. 종래에는 비교현미경(마스크비교기)이 사용되어 오다가, 현재에는 패턴의 좌표위치를 절대측정하는 광파간섭식 좌표측정기가 사용되고 있다.
반/디 용어집검사장치registration inspection
단위보정 - line width control
패턴 데이터 위의 선폭과 마스크 위에 형성된 패턴의 선폭의 차이를 보정하는 것으로, 패턴 데이터 자체를 보정하거나, 노광, 공정조건의 제어를 통해 보정하는 것.