전자총의 구성요소 중 하나로써, 캐소드에서 방사된 전자를 가속시키기 위한 전극. 보통, 애노드는 전자총 용기와 함께 접지되어 있어, 캐소드에는 수십 KV의 마이너스 가속 전압이 인가된다.
반/디 용어집노광․묘화장치마스크제조공정
캐소드 - cathode
전자총의 구성요소 중 하나로써, 전자를 방사하는 전극. 열전자방사용의 텅스텐 에어빔형 캐소드, LaB6 그리고 전계 또는 열전계방사용 캐소드 등이 있다.
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이차전자 - secondary electron
전자가 고체표면 또는 기체분자와 충돌할 경우, 충돌한 물질에서 새롭게 방출되는 저에너지의 전자.
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음향광학 소자 - acousto optical modulator
초음파에 의해 석영가스의 굴절률을 변화시켜, 빛의 경로를 편향시키는 소자
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웨넬트 그리드 - Wehnelt grid
전자총의 구성요소 중 하나로써, 전자의 방사량(에미션 전류)을 제어하고, 전자를 빔의 형상으로 집속시키기 위한 전극. 캐소드에 대해 수백 V의 마이너스 전압(바이어스 전압)이 인가된다.
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일차전자 - primary electron
전자총에서 방사되어 고체표면에 입사되는 전자
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위치정밀도 - pattern position accuracy
비교 기준을 기초로 하여 절대적, 상대적 위치 정밀도로 나눈다. 절대적 위치 정밀도는 본래 원하는 설계위치와 가판 위에 묘화된 패턴 위치와의 차이의 정밀도이고, 상대적 위치정밀도는 비교 기준이 되는 마스크 위의 패턴과 검사대상인 마스크 위의 패턴 위치와의 차이의 정밀도를 말한다.
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윤곽묘화 - framing exposure
묘화장치로 묘화하는 패턴을 일정폭의 윤곽과 내측(內側)으로 분리하여, 각각 노광하는 것. 근접효과에 의한 묘화 패턴의 선폭과 형상이 설계값과 틀려지는 것을, 이 방법으로 감소시킬 수 있다.
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인렌즈편향방식 - in - lens deflection
최종단 렌즈의 중심에 편향기가 들어있는 빔 편향방식. 편향자장과 렌즈자계의 중첩에 의해 편향 수차를 감소시키는 장점이 있다.
