레지스트레이션 마스크중복정밀도 - registration mask overlay accuracy

작성자: MidasIT 반디통 | 2021. 8. 5 오후 3:00:00

각 공정 사이에서의 마스크 또는 레티클의 패턴 위치의 상대적 위치 오차. 묘화장치에서 마스크 또는 레티클의 패턴을 묘화시킬 때의 피치(pitch)정밀도 또는 치수정밀도에 기인한다.