기술용어통 : CAE 입문자도 쉽게 이해할 수 있는 '알기 쉬운 기술 용어집'
다단열처리 - multi steps annealing
작성자:
MidasIT 반디통
| 2021. 8. 5 오후 3:00:00
주로 Si 웨이퍼의 내부에 미소결함을 형성 및 성장시키는 열처리방법. 700℃전후의 저온열처리에서 미소결함의 핵을 형성시키고, 다음에 1000℃전후의 고온열처리에서 미소결함을 성장시키는 등, 결함을 쉽게 검출할 목적으로 실시된다. 저온과 고온을 여러 번 조합하여 실시하는 열처리방법.
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