주입실 - implant chamber process chamber target chamber

작성자: MidasIT 반디통 | 2021. 8. 5 오후 3:00:00

웨이퍼에 이온주입하는 처리실. 주입할 때, 챔버 내에 있는 가스와 이온빔의 충돌에 의해 발생하는 중성입자가 같이 주입되어 생기는 주입량의 오차를 막기위해, 고진공을 유지할 필요가 있다. 높은 쓰루풋(throughput)을 달성하기 위해, 진공 예비실과 두 개의 주입실이 설계된 장치도 있다.

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