기술용어통 : CAE 입문자도 쉽게 이해할 수 있는 '알기 쉬운 기술 용어집'
TEOS - O3 CVD - TEOS - O3 atmosphere pressure CVD
작성자:
MidasIT 반디통
| 2021. 8. 5 오후 3:00:00
반응원으로 액체소스인 TEOS*를 사용하고, 산화제로 O3를 사용하여 SiO2막을 형성하는 상압 CVD. 우수한 단차 피복성(step coverage)과 높은 쓰루풋이 특징이다. 도핑재료로서는 B, P가 이용되고 있다. *tetraethylorthosilicate, Si(OCH2CH3)
전체 게시물 보기