붕소도핑 SiO2 - SiO2 film fluorine doped silicon dioxide

작성자: MidasIT 반디통 | 2021. 8. 5 오후 3:00:00

붕소를 첨가한 실리콘 산화막. 층간절연막으로 쓰이는 저유전체재료인, TEOS-C2F6계와 TEFS** 등의 소스를 이용하여 플라즈마CVD법으로 형성된다. **tri ethoxy fluoro silane