기술용어통 : CAE 입문자도 쉽게 이해할 수 있는 '알기 쉬운 기술 용어집'

프린터빌리티 - printability

작성자: MidasIT 반디통 | 2021. 8. 5 오후 3:00:00
스테퍼 등에 사용되는 마스크 위의 패턴 결함이 웨이퍼 위로 전사(轉寫)될 가능성. 일반적으로는 스테퍼의 렌즈개구수(NA), 포커스, 웨이퍼 공정 조건, 마스크 위의 패턴 결함의 크기, 종류, 위치 등이 파라메터가 된다.