현상전 베이킹 PEB - post - exposure bake

작성자: MidasIT 반디통 | 2021. 8. 5 오후 3:00:00

단일 파장의 빛으로 노광할 경우, 정재파(standing wave)에 의한 레지스트 패턴(레지스트측벽 모양)의 변화를 줄이기 위해, 노광한 후 현상하기 전에 베이킹하는 것. 또, 화학증폭형 레지스트 노광 후의 접촉반응을 촉진하기 위해 실시한다.