플라즈마 도핑장치 - plasma doping system

작성자: MidasIT 반디통 | 2021. 8. 5 오후 3:00:00

도핑하는 불순물원자를 함유한 가스에 글로우방전 플라즈마를 발생시켜 저온(200～300。C)에서 불순물을 고농도로 도핑하는 장치. 저온에서 도핑처리 하기 때문에, 웨이퍼의 열적인 결함발생을 억제할 수 있고, 웨이퍼의 휨과 굴곡도 방지할 수 있다.