좁은형 RIE장치 - narrow gap reactive ion etching system

작성자: MidasIT 반디통 | 2021. 8. 5 오후 3:00:00

전극 사이가 좁은(5～10㎜ 정도) 평행평판형 반응성이온 식각장치. 비교적 고압영역에서 가스를 방전하여, 높은 이온전류가 얻어진다.