마그네트론형 RIE장치 - magnetron enhanced reactive ion etching system

작성자: MidasIT 반디통 | 2021. 8. 5 오후 3:00:00

웨이퍼와 평행한 자계영역을 형성하는 자계 발생수단을 구비하고, 웨이퍼표면에 형성된 직교전자계에 의한 마그네트론방전을 이용하여 고밀도 플라즈마를 발생시켜 식각하는 반응성이온 식각장치.