강유전체 박막 - ferroelectric thin film

작성자: MidasIT 반디통 | 2021. 8. 5 오후 3:00:00

캐패스터용으로 사용되는 PZT*1, BST*2, SBT*3 등의 박막. MOCVD법, 용액기화CVD법, 스퍼터링법, 졸겔(Sol Gel)법, 도포법 등으로 형성된다. *1 : PbxZr1-χTiO3 *2 : BaxSr1-χTiO3 *3 : SrBi2Ta2O9