CVD장치 - chemical vapor deposition system

작성자: MidasIT 반디통 | 2021. 8. 5 오후 3:00:00

박막재료를 구성하는 원소로 되어 있는 한 종류 또는 여러 종류의 화합물가스, 단체가스를 웨이퍼 위에 공급하고, 공기중이나 웨이퍼 표면에서 화학반응을 일으켜 원하는 박막을 형성하는 장치. 가스분자를 여기시키는 것은 일반적으로 열에너지와 플라즈마 방전을 이용하고 있다. 최근에는 광(레이저, 자외선 등)여기 CVD장치도 실용화단계에 있다.

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