기술용어통 : CAE 입문자도 쉽게 이해할 수 있는 '알기 쉬운 기술 용어집'

정전 척 - electrostatic chuck

시료대 위에 유전체층을 만들어, 시료대와 웨이퍼 사이에 전압을 걸어주어, 두 개 사이에 발생하는 쿨롱의 힘(정전기력)으로 흡착하는 척. 웨이퍼지지 및 온도제어를 위해 시료대, 반송장치등에 이용된다.

반/디 용어집 기본․공통 웨이퍼처리공정
이중대머신 - dual damascence

미리 비아(콘택)홀과 배선이 되어야 하는 부분에 홈을 형성해 두고, 막을 성장시켜 매립하고, 다음에 연마하여, 여분의 퇴적부분을 제거하여, 홀의 매립배선을 동시에 형성하는 기술.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정
오프액시스 정렬 - off - axis alignment

노광위치와 다른 위치로 정렬한 광학계를 배치하여, X방향, Y방향, θ방향의 위치정합을 행하는 방법. 쓰루풋이 높다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
열확산장치 - thermal diffusion furnace

온도와 가스유량을 제어하여 p형, n형의 불순물을 웨이퍼 속에 열확산하기 위한 장치. 반응관 및 히터의 배치방법에 의한 수평형열확산장치, 수직형열확산장치로 구분된다.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 도핑
이중원격 중심렌즈 - double telecentric - ity lens

입사광의 초점과 반사광의 초점이 모두 무한히 먼 곳에 위치하는 광학계로써, 모두 주광선은 물체공간 및 상공간에도 광축에 평행하게 되어, 물체면과 상면 사이에 생기는 오차와 배율오차가 주는 영향을 작게하는 렌즈계.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광
열산화장치 - thermal oxidation furnace

가열한 반응관 안의 웨이퍼에 산소 또는 물분자를 공급한 후, 고온에서 열산화반응을 일으켜, 웨이퍼에 산화막을 형성시키는 장치.

반/디 용어집 산화장치 웨이퍼처리공정
이방성식각 - anisotropic etching

깊이 방향의 식각속도가 수평방향보다 큰 경우로써, 식각속도가 방향의존성을 갖는 것. 이방성이 클 경우, 깊이(수직)방향의 식각만 일어난다. 미세패턴 가공, 콘택, 측벽스페이서를 만드는데 이용된다.

반/디 용어집 건식식각장치 웨이퍼처리공정
온도변화 프로필 - temperature up and down profile

웨이퍼 등을 열처리할 때의 온도변화와 처리시각과의 관계를 표시하는 패턴. 열처리의 재현성 향상, 웨이퍼의 휨, 왜곡의 발생을 막기 위해 온도변화패턴을 프로그램제어하는 경우가 있다.

반/디 용어집 어닐장치 웨이퍼처리공정
웨이퍼 표면검사 - wafer surface inspection

거울면(패터닝 전) 웨이퍼표면의 결함의 크기와 형상, 또는 표면계질(表面界質) 등의 검사.

반/디 용어집 웨이퍼처리공정 노광

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이중원격 중심렌즈 - double telecentric - ity lens

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웨이퍼 표면검사 - wafer surface inspection