가열한 반응관 안의 웨이퍼에 산소 또는 물분자를 공급한 후, 고온에서 열산화반응을 일으켜, 웨이퍼에 산화막을 형성시키는 장치.
반/디 용어집산화장치웨이퍼처리공정
외부연소 장치 - external torch unit
열산화장치를 사용하여 수증기산화를 할 경우에 수소가스와 산소가스를 반응로 밖에서 연소시키는 수증기발생장치. 수증기의 양은 수소가스를 유량제어기(mass flow controller, MFC)로 조정하여 정밀하게 제어한다. 연소부를 발열(pyrogenic)장치라고도 한다.
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유틸리티 박스 - utility box
본체외부에 설치되며, 장치에 공급되는 전기, 가스, 냉각수 등의 제어기기를 내장한 박스.
반/디 용어집산화장치웨이퍼처리공정
온도회복 시간 - temperature recovery time
미리 가열된 반응관의 균열부분에 웨이퍼를 삽입한 때부터, 웨이퍼 삽입 이전의 균열상태가 얻어질 때까지의 시간
반/디 용어집산화장치웨이퍼처리공정
온도프로필 - temperature profile
원통형 히터 안의 반응관에 있는 관 길이 방향의 온도분포. 반응로 안의 온도와 거리와의 관계를 표시한다.
반/디 용어집산화장치웨이퍼처리공정
보온통 - pedestal
열처리 할 때, 열을 외부로 새나가지 않게 않는 모양으로 된 기구. 보통, 수직형 열처리반응로 포트의 하부에 설치된 밑받침과 겸용한다. 재질은 주로 석영과 실리콘카바이드(SiC)를 이용한다.
반/디 용어집Pedestal산화장치
소스캐비넷 - source cabinet
산화장치, 열확산장치, CVD장치 등에 있어서, 산화막형성, 불순물확산, 박막형성의 반응에 필요한 소스(주로 가스)를 공급하기 위한 시스템을 넣어 두는 캐비넷. 가스배관, 밸브, 유량계측기(flow meter), 유량제어기(mass flow meter) 등이 수납된다.
반/디 용어집산화장치웨이퍼처리공정
스카벤저 - scavenger
열산화장치, 열확산장치, CVD장치 등에 있어서, 반응로의 끝에 위치하며, 공정 가스와 열이 클리닝벤치(cleaning bench)쪽으로 확산되는 막기 위한 목적으로 반응관에 접속하는 부분.
반/디 용어집산화장치웨이퍼처리공정
보트 로더 - boat loader
반응관에 보트를 자동으로 넣고 꺼내는 기기. 속도와 정지위치의 재현성에 대한 정밀도를 제어한다. 푸셔(pusher)막대를 반응관 안에 넣고 꺼내서 보트를 삽입하고, 빼내기도 한다.